讓EEVEE效果更真實，Blender渲染設定教學

我們知道Blender在實際應用中主要有兩個渲染器可供選擇：EEVEE和Cycles，大多數情況下為了獲取真實的材質和環境互動質感，我們都會傾向於選擇具備“光線追蹤”功能的Cycles渲染器，但問題也接踵而至。

Cycles渲染器非常吃硬體資源，有時候一幀的渲染時間就得按分鐘來計算，如果是單幀的精密場景甚至按小時算也不誇張，在這種時候我就會無比眼饞EEVEE極快的渲染速度，但它相對匱乏的細節表現力又讓人十分頭痛，那麼，有沒有什麼辦法讓EEVEE也在一定程度上具備更強的視覺真實性呢？

環境光遮蔽、輝光和螢幕空間反射

在

EEVEE渲染器的設定介面，我們可以看到不少引數都是可以調整的，在預設設定下Blender的EEVEE渲染效果主要是為了省資源，但犧牲了視覺質量，所以我們需要按需精細調整其中的一些引數，就能獲得立竿見影的效果。

圖1

為了演示效果差異，我們搭建瞭如圖1所示的簡單場景，很明顯，在EEVEE渲染器下，問題非常多，首先物體雖然都是放在地面上的，但好像少了什麼，感覺看上去都是浮空的；其次，左側的燈條雖然做了發光效果，但一點也不亮，同時環境也沒有被照亮，很不真實；再次，中間的金屬球反饋出了環境HDR素材，但卻沒有其他物體的鏡面反射效果，再次加劇了這種不真實感。

解決這三個問題的方法其實也非常簡單，首先是勾選“環境光遮蔽”，遊戲玩家對這個設定應該都有印象，它的作用就是在面與面的接觸位置新增陰影，勾選後我們就能很直觀地看到物體“放在了”地面上，而且還有距離、係數和追蹤精度三個專案可調，大家也都可以按需選擇。

接下來解決光源的問題，這時候只需要勾選“輝光”，環境中的所有發光物體都會呈現出輝光效果，但注意，這個設定也會讓反光變得更亮，如果在動畫渲染時某些幀出現了不明高亮畫素，就要注意是不是開啟了這個效果。

第三個，也是對質感提升最重要的設定就是鏡面反射，在EEVEE渲染器裡只需要勾選“螢幕空間反射”，就能開啟鏡面反射效果，讓光滑的金屬物體可以反射環境物體和光源，基本上預設選項就已經可以滿足需求，如果想要高質量的反射效果，可以取消勾選“半精度追蹤”。三項設定完成後的效果如圖2所示可以看到與圖1有了非常明顯的不同。

圖2

陰影質量、色彩管理和間接光照明烘焙

完成了前面的設定，再切換到Cycles渲染器對比一下不難發現在細節上即便是調整後的EEVEE渲染器也仍有不足，比如陰影，在一些光線斜射的面會存在包括投影錯位甚至無投影等細節問題，除此之外整個環境的光線互動也顯得比較單薄，比如左下角的藍色柱體就沒有正確反饋出周圍黃色立方塊的顏色反光，而且渲染輸出的顏色也並不太好看，仍有調整空間。

為了解決這些問題，我們就必須更深入對EEVEE渲染器進行設定，首先是陰影，預設的矩形尺寸和級聯大小都比較小，要求較高的話就需要設定到最高的4096畫素，並勾選“高位深”，這時候的陰影效果就已經有明顯的提升，接下來我們還需要進入燈光的物體資料屬性，在陰影標籤下勾選“接觸陰影”，從圖3不難看出，開啟接觸陰影后的右圖有了更細緻的陰影效果。

圖3

最後，也是可以提升細節質感的一步就是利用輻射體積來烘焙環境漫反射資料，我們需要先在場景中新建一個輻射體積，然後大家可以看到一個三維點陣，這就是EEVEE渲染器下實現環境漫反射烘焙的基準點，我們需要調整輻射體積的大小，讓它儘量與場景主體匹配，然後在輻射體積的物體資料屬性裡調整它的XYZ解析度。

完成後回到EEVEE渲染器設定介面，在“間接光照明”選項裡進行烘焙，注意，這時候的漫射反彈、立方體反射尺寸和漫射遮蔽數值設定較大的話，會非常明顯地增加烘焙時間，所以一般情況下我都如圖4所示，直接選擇預設的數值。

烘焙完成後，我們再拉到渲染器設定介面的最下方，將“色彩管理”標籤頁裡可以調整畫面色調，一般情況下我會選擇“Flimic”，並透過膠片效果適當新增對比度，完成後就能得到如圖6的最終效果了，對比一下圖1，差距是不是非常明顯呢？

圖4

圖6

單元總結：非寫實類渲染，EEVEE確實夠用

透過本期的教程不難發現，在適當設定的前提下，EEVEE也能獲得相當真實的輸出質感，事實上很多遊戲引擎在輸出時，光線追蹤和光柵也都是同步進行的，其中光柵輸出的層級更基礎，也同樣可以獲得很不錯的視覺效果。

而從我的實際專案製作經驗來看，除非是一些我們非常熟悉的渲染專案，比如人臉，EEVEE在大多數情況下都是夠用的，而且還可以節約不少的時間。