分析師：光刻機，ASML到底“留了一手”

或許對於大部分朋友來說，對ASML的瞭解，只是知道ASML可以生產製造EUV光刻機，但是目前還無法向我們供貨，不過在DUV光刻機上，供貨還是沒有問題的。

而對於DUV光刻機，可能大家瞭解的就不是很多了，實際上，DUV光刻機經過了三次比較大幅度的發展，最終沒有辦法才走向了發展EUV光刻機的道路。

對於ASML來說，當時研發EUV光刻機，也是捏了一把汗，因為如果研發失敗，ASML很有可能就失去了在光刻機市場的地位。

雖然ASML的DUV光刻機可以出貨，但是有分析師表示，ASML到底還是”留了一手“。

這裡我們就有必要對DUV光刻機進行一些簡單的介紹，大致上DUV光刻機分為三個型別，分別是KRF、ARF和ARFi三種，對應的波長分別是248奈米、193奈米和134奈米。

實際上ARF和ARFi屬於同一光源，只不過ARFi加入了浸沒系統，所以最終光刻機的等效波長，經過超淨水的折射，變成了134奈米，因此這類光刻機也

被稱為

溼法光刻機，ARF就被稱之為幹法光刻機。

目前我們的國產光刻機解析度上已經做到了90奈米，可以生產65奈米的晶片，屬於ARF光刻機。

但是近些年來我們看到，很多我們國內的廠商，依然在選擇ASML的ARF光刻機，其中有很多廠商，只是購買光刻機來測試自家的產品，我們國產光刻機其實也可以滿足要求。

而這裡就是分析師所說的ASML到底還是”留了一手“。

雖然同樣都是可以滿足測試要求的ARF光刻機，可以支援的工藝水平也是差不多的，但是ASML在此之上，還推出了其他的升級服務。

具體來說，ASML開發了一種

叫作

”浸入式轉換“的技術，其可以將客戶購買的”幹法“光刻機升級到“溼法”光刻機。

這樣的話，客戶就不用購買新的“溼法”光刻機了，不得不說，這項轉換技術很有針對性。

因為上面我們也提到了，我們國產光刻機已經完成“幹法”技術，正在向著“溼法”光刻機推進，而ASML此舉，無疑讓我們國產“幹法”DUV光刻機受到冷落。

不得不說，ASML利用EUV光刻機在市場發起“進攻”，但是在DUV光刻機市場也不忘“防守”，ASML到底“留了一手”。

不過這種情況不會持續太久了，因為根據之前的媒體報道，我國光刻機曝光系統供應鏈企業國望光學的工廠即將開建，屆時將可以提供滿足“溼法”DUV光刻機所需要的物鏡系統。

這就意味著，我們國產DUV光刻機也將進入“溼法”階段，ASML的最後屏障將只剩下EUV光刻機。

不得不說，ASML“留了一手”也不奇怪，這就像賽跑，如果要保證自己一直領先，除了自己要跑得快，還要想辦法讓對手跑得慢。

我們在追趕的過程中，難免要經歷一些風雨，不可能是一帆風順，但是風雨過後是彩虹，ASML的“小伎倆”是無法阻止我們的“大目標”的，我們拭目以待。